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Untersuchung von Kegelbildung auf
Indiumzinnoxid-Sputtertargets
Reger N., Stadermann F. J., and Ortner H. M. (1995).
Abstracts für 8. Tagung Festkörperanalytik, Wien,
p. 61.
ABSTRACT (in German)
Dünne Schichten von Indiumzinnoxid (ITO) sind
optisch transparent und elektrisch leitend. Daher werden sie
bei der Herstellung von Flüssigkristallbilschirmen
verwendet. Die Beschichtung erfolgt durch Sputtern von
Indiumzinnoxid-Targets im Argonplasma. Während des
Sputterns entstehen auf dem Target bis zu einem Millimeter
große Kegel, welche das Sputterverhalten negativ
beeinflussen. Diese Beeinträchtigung spielt besonders
bei längeren Sputterzeiten, die zur Beschichtung
größerer Flächen erforderlich sind, eine
Rolle. Ziel dieser Arbeit ist es, die Ursache dieser
Kegelbildung zu untersuchen.
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